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半导体cvd设备是什么
半导体CVD设备是半导体工业中重要的制造工具，它通过化学气相沉积技术将材料沉积在基板上，以制造半导体器件。CVD设备利用化学反应将气体沉积在基板上，形成需要的材料，如硅、氮化物、氧化物等。CVD设备通常由加热室、气体输送系统和反应室等组成。根据反应室内气体流动方式，CVD设备可以分为低压CVD、大气压CVD和等离子体增强CVD等多种类型。
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